钼靶材(高纯钼靶材,钼溅射靶材,真空镀膜用钼靶材)

标签:钼靶材,高纯钼靶材,钼溅射靶材,真空镀膜用钼靶材

钼靶材(高纯钼靶材,钼溅射靶材,真空镀膜用钼靶材)
产品描述

产品名称:钼靶材
纯度:≥99.95%
密度:理论密度的99.9%以上
圆靶材规格:D(25-400)mm*T(3-28)mm
方靶材规格:L(200-2000)mm*W(10-1000)mm*T(1-20)mm
管靶材规格:D≤Φ165mm*L≤1000mm
其他规格请联系我们协商解决
     钼靶材广泛用于磁控溅射镀膜。在物理气相镀膜(PVD)方式中,对钼靶材的成分纯度,密度,微观结构,内部质量,焊接质量,外观质量和几何尺寸有着严格要求。
     钼溅射靶材现用于平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、(磁、光)记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等,
板靶材: 单重:≤200kg/pc, 纯度:≥99.95% 
管靶材: 长度:≤Φ165mmΧ1000mm ,纯度:≥99.95%

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