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产品名称：钼靶材
纯度：≥99.95%
密度：理论密度的99.9%以上
圆靶材规格：D（25-400）mm*T（3-28）mm
方靶材规格：L（200-2000）mm*W（10-1000）mm*T(1-20)mm
管靶材规格：D≤Φ165mm*L≤1000mm
其他规格请联系我们协商解决
钼靶材广泛用于磁控溅射镀膜。在物理气相镀膜(PVD)方式中，对钼靶材的成分纯度，密度，微观结构，内部质量，焊接质量，外观质量和几何尺寸有着严格要求。
钼溅射靶材现用于平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、（磁、光）记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等，
板靶材: 单重:≤200kg/pc, 纯度:≥99.95%
管靶材: 长度:≤Φ165mmΧ1000mm ,纯度:≥99.95%
