株洲众拓新材料有限公司(徐经理18073352310)-【铌靶材,高纯铌靶材,铌合金靶材,钽铌靶材,磁控溅射铌靶材,旋转铌靶材,RO4200-1铌靶材,RO4210-2铌靶材】
铌靶材是重要的薄膜技术用材料,铌靶材最终制作纯度可高于99.95%,且其晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好,作为阴极溅射靶材所形成的氧化膜质度均匀,不与空气中其他物质发生化学反应,保护效果持久。铌溅射靶材在光导纤维,半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。
我公司可根据客户要求生产各种铌坩埚, 铌法兰,铌螺丝,铌螺钉,铌螺母,铌加热制品,铌隔热器,钽异形件。如有特殊要求,双方具体商定。
产品名称:铌靶材
牌号:RO4200-1,RO4210-2
执行标准:ASTM B393-89
纯度:≥99.95%
圆靶材规格:直径(25-400)x厚度(3-28)mm
方靶材规格:厚度(1-20)x宽度(10-1000)x长度(200-2000)mm
状态:退火态或硬态
化学成分:
Fe | 30ppm 最大 |
Ni | 25ppm 最大 |
Cr | 5ppm 最大 |
Cu | 5ppm 最大 |
Zr | 50ppm 最大 |
P | 30ppm 最大 |
Si | 30ppm 最大 |
Ta | 600ppm 最大 |
W | 50ppm 最大 |
Mo | 50ppm 最大 |
Na | 3ppm 最大 |
Li | 5ppm 最大 |
K | 3ppm 最大 |
U | 0.1ppm 最大 |
Th | 0.1ppm 最大 |
Others | 10ppm 最大 |
C | 40ppm 最大 |
O | 130ppm 最大 |
N | 20ppm 最大 |
H | 15ppm 最大 |
再结晶:95%最少
表面粗糙度:Ra 0.4
晶粒度:40μm
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